HERCULES®NIL完全集成SmartNIL®的UV-NIL紫外光納米壓印系統(tǒng)。EVG的HERCULES®NIL產(chǎn)品系列HERCULES®NIL完全集成SmartNIL®UV-NIL系統(tǒng)達200毫米對于大批量制造的完全集成的納米壓印光刻解決方案，具有EVG's專有SmartNIL®印跡技術(shù)HERCULESNIL是完全集成的UV納米壓印光刻跟蹤解決方案，適用于ZUI大200mm的晶圓，是EVG的NIL產(chǎn)品組合的ZUI新成員。HERCULESNIL基于模塊化平臺，將EVG專有的SmartNIL壓印技術(shù)與清潔，抗蝕劑涂層和烘烤預(yù)處理步驟相結(jié)合。這將HERCULESNIL變成了“一站式服務(wù)”，將裸露的晶圓裝載到工具中，然后將經(jīng)過完全處理的納米結(jié)構(gòu)晶圓退回。SmartNIL技術(shù)可提供功能強大的下一代光刻技術(shù)，幾乎具有無限的結(jié)構(gòu)尺寸和幾何形狀功能。紫外光納米壓印出廠價

EV集團和肖特攜手合作，證明300-MM光刻/納米壓印技術(shù)在大體積增強現(xiàn)實/混合現(xiàn)實玻璃制造中已就緒聯(lián)合工作將在EVG的NILPhotonics®能力中心開展，這是一個開放式的光刻/納米壓?。∟IL）技術(shù)創(chuàng)新孵化器，同時也是全球為一可及的300-mm光刻/納米壓印技術(shù)線2019年8月28日，奧地利，圣弗洛里安――微機電系統(tǒng)（MEMS）、納米技術(shù)和半導(dǎo)體市場晶圓鍵合與光刻設(shè)備領(lǐng)仙供應(yīng)商EV集團（EVG）金日宣布，與特種玻璃和微晶玻璃領(lǐng)域的世界領(lǐng)仙技術(shù)集團肖特攜手合作，證明300-mm（12英寸）光刻/納米壓印（NIL）技術(shù)在下一代增強現(xiàn)實/混合現(xiàn)實（AR/MR）頭戴顯示設(shè)備的波導(dǎo)/光導(dǎo)制造中使用的高折射率（HRI）玻璃晶圓的大體積圖案成形已就緒。此次合作涉及EVG的專有SmartNIL®工藝和SCHOTTRealView?高折射率玻璃晶圓，將在EVG位于奧地利總部的NILPhotonics®能力中心進行。肖特將于9月4日至7日在深圳會展中心舉行的中國國際光電博覽會上展示一款采用EVGSmartNIL技術(shù)進行圖案成形的300-mmSCHOTTRealView?玻璃晶圓。300-mm和200-mmSCHOTTRealView?玻璃基板，裝配在應(yīng)用SmartNIL®UV-NIL技術(shù)的EVG®HERCULES®。紫外光納米壓印出廠價納米壓印設(shè)備哪個好？預(yù)墨印章可用于將材料以明顯的圖案轉(zhuǎn)移到基材上。

EVG®720自動SmartNIL®UV納米壓印光刻系統(tǒng)自動全視野的UV納米壓印溶液達150毫米，設(shè)有EVG's專有SmartNIL®技術(shù)EVG720系統(tǒng)利用EVG的創(chuàng)新SmartNIL技術(shù)和材料專業(yè)知識，能夠大規(guī)模制造微米和納米級結(jié)構(gòu)。具有SmartNIL技術(shù)的EVG720系統(tǒng)能夠在大面積上印刷小至40nm*的納米結(jié)構(gòu)，具有無人能比的吞吐量，非常適合批量生產(chǎn)下一代微流控和光子器件，例如衍射光學(xué)元件（DOEs）。*分辨率取決于過程和模板如果需要詳細的信息，請聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司。也可以訪問官網(wǎng)，獲得更多信息。

EVG®520HE熱壓印系統(tǒng)特色：經(jīng)通用生產(chǎn)驗證的熱壓印系統(tǒng)，可滿足蕞高要求EVG520HE半自動熱壓印系統(tǒng)設(shè)計用于對熱塑性基材進行高精度壓印。EVG的這種經(jīng)過生產(chǎn)驗證的系統(tǒng)可以接受直徑蕞大為200mm的基板，并且與標(biāo)準的半導(dǎo)體制造技術(shù)兼容。熱壓印系統(tǒng)配置有通用壓花腔室以及高真空和高接觸力功能，并管理適用于熱壓印的整個聚合物范圍。結(jié)合高縱橫比壓印和多種脫壓選項，提供了許多用于高質(zhì)量圖案轉(zhuǎn)印和納米分辨率的工藝。如果需要詳細的信息，請聯(lián)系岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司。EVG的納米壓印設(shè)備包括不同的單步壓印系統(tǒng)，大面積壓印機以及用于高效母版制作的分步重復(fù)系統(tǒng)。

SmartNIL是行業(yè)領(lǐng)仙的NIL技術(shù)，可對小于40nm*的極小特征進行圖案化，并可以對各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀進行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術(shù)相結(jié)合，可實現(xiàn)無人可比的吞吐量，并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢，同時保留了可擴展性和易于維護的操作。EVG的SmartNIL兌現(xiàn)了納米壓印的長期前景，即納米壓印是一種用于大規(guī)模制造微米級和納米級結(jié)構(gòu)的低成本，大批量替代光刻技術(shù)。注：*分辨率取決于過程和模板。如果需要詳細的信息，請聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司。EVG的納米壓印光刻（NIL）-SmartNIL?是用于大批量生產(chǎn)的大面積軟UV納米壓印光刻工藝。MEMS納米壓印可以試用嗎

EVG ? 770是分步重復(fù)納米壓印光刻系統(tǒng)，使用分步重復(fù)納米壓印光刻技術(shù)，可進行有效的母版制作。紫外光納米壓印出廠價

EVG®720特征：體積驗證的壓印技術(shù)，具有出色的復(fù)制保真度專有SmartNIL®技術(shù)，多使用聚合物印模技術(shù)集成式壓印，UV固化脫模和工作印模制造盒帶到盒帶自動處理以及半自動研發(fā)模式可選的頂部對準可選的迷你環(huán)境適用于所有市售壓印材料的開放平臺從研發(fā)到生產(chǎn)的可擴展性系統(tǒng)外殼，可實現(xiàn)ZUI佳過程穩(wěn)定性和可靠性技術(shù)數(shù)據(jù)晶圓直徑（基板尺寸）75至150毫米解析度：≤40nm（分辨率取決于模板和工藝）支持流程：SmartNIL®曝光源：大功率LED（i線）>400mW/cm2對準：可選的頂部對準自動分離：支持的迷你環(huán)境和氣候控制：可選的工作印章制作：支持的紫外光納米壓印出廠價