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發(fā)布時(shí)間:2024-12-26 18:09:20   來(lái)源:長(zhǎng)春市大海包裝有限公司   閱覽次數(shù):31574次   

微蝕刻液循環(huán)再生設(shè)備在使用中不但使微蝕刻工序基本實(shí)現(xiàn)污染零排放,并產(chǎn)出純度高、價(jià)值高的電解金屬銅。 一、微蝕液包括過(guò)硫酸鈉/硫酸體系和雙氧水/硫酸體系,在近幾年的運(yùn)用在PCB之表面處理制程,例如:沉銅(PTH)制程,電鍍制程、內(nèi)層前處理、綠油前處理、OSP處理等生產(chǎn)線(xiàn)。 我們公司目前對(duì)過(guò)硫酸鈉/硫酸和雙氧水/硫酸兩種體系的微蝕工序研發(fā)設(shè)計(jì)了不同的循環(huán)再生設(shè)備。 無(wú)論是過(guò)硫酸鈉/硫酸體系還是雙氧水/硫酸體系,我司設(shè)備均可把飽和微蝕液處理再生后,返回客戶(hù)生產(chǎn)線(xiàn)繼續(xù)使用,回用時(shí),不改變客戶(hù)原生產(chǎn)工藝參數(shù);在運(yùn)行我們公司設(shè)備時(shí)可不停機(jī)亦可更換藥水,從而達(dá)到穩(wěn)定生產(chǎn)的目的。華星光電用的哪家的BOE蝕刻液?湖北一種BOE蝕刻液批量定制

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離子膜電解法是電解槽30陽(yáng)極可以為石墨板或鈦陽(yáng)極板,陰極為鈦板,用離子膜將陽(yáng)極液和陰極液隔離開(kāi),陽(yáng)極為需要再生的蝕刻母液,陰極為銅離子20~100g/l,酸度,電解槽30由數(shù)個(gè)單元電解槽串聯(lián)組成,單元電解槽30由一個(gè)或者數(shù)個(gè)陽(yáng)極模框組成,酸性蝕刻廢液經(jīng)循環(huán)槽20陽(yáng)極循環(huán)區(qū)229進(jìn)入電解陽(yáng)極區(qū)301,溢流回循環(huán)槽20蝕刻循環(huán)區(qū)230。調(diào)整好循環(huán)槽20的陰極循環(huán)區(qū)231的開(kāi)槽銅離子濃度20~100g/l,經(jīng)電解槽30陰極然后溢流回循環(huán)槽20陰極循環(huán)區(qū)231完成正常循環(huán),電解過(guò)程中陰極鈦板生成金屬銅,一定時(shí)間后銅可以剝離下來(lái),剩下的廢水成為再生液,再生液因電解使銅離子濃度越來(lái)越低,酸度上升,同時(shí)比重下降時(shí),通過(guò)比重自動(dòng)添加器添加母液來(lái)提高再生液銅離子的濃度。湖北了解BOE蝕刻液商家哪家的BOE蝕刻液比較好用點(diǎn)?

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為了解決上述技術(shù)問(wèn)題,本發(fā)明采用以下技術(shù)方案: 一種PCB酸性蝕刻液提取銅的方法,包括以下步驟:將使用過(guò)的酸性蝕刻液收集到廢液池中,送入離子膜電解室;使低ORP的酸性蝕刻液從離子膜電解槽陽(yáng)極低位進(jìn)入,當(dāng)ORP升高時(shí),高ORP的酸性蝕刻液再經(jīng)陽(yáng)極區(qū)高位流出;高含銅量的蝕刻液從離子膜電解槽陰極區(qū)低位進(jìn)入,蝕刻廢液在電解作用下還原出銅單質(zhì),降低銅離子含量之后的蝕刻液從陰極高位流出,經(jīng)再生調(diào)配室調(diào)配后繼續(xù)用于蝕刻,蝕刻產(chǎn)生的廢液收集到廢液池中進(jìn)行循環(huán)處理;電解室電解過(guò)程中的鹽酸揮發(fā)進(jìn)入中和室進(jìn)行中和反應(yīng);對(duì)銅單質(zhì)進(jìn)行水洗烘干,即可得到提取的銅。

據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的蝕刻液,其特征在于,進(jìn)一步含有α-羥基羧酸和/ 或α-羥基羧酸的鹽。 根據(jù)權(quán)利要求4所述的蝕刻液,其特征在于,所述α-羥基羧酸為選自由酒石酸、蘋(píng)果酸、檸檬酸、乳酸及甘油酸所組成的群組中的至少一種。 根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的蝕刻液,其特征在于,所述酸的濃度為20重量%至70重量%;所述有機(jī)硫化合物的濃度為0.01重量%至10重量%。 根據(jù)權(quán)利要求4至6中任一項(xiàng)所述的蝕刻液,其特征在于,所述α-羥基羧酸和/或α-羥基羧酸的鹽的濃度為0.2重量%至5重量%。什么制程中需要使用BOE蝕刻液。

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在電子線(xiàn)路版(PCB)蝕刻過(guò)程中,蝕刻液中的銅含量漸漸增加。蝕刻液要達(dá)到比較好的蝕刻效果,每公升蝕刻液需含120至180克銅及相應(yīng)分量的蝕刻鹽(NH4CI)及氨水(NH3)。要持續(xù)蝕刻液中上述各種成份的濃度比較好水平,蝕刻用過(guò)后的(以下稱(chēng)[用后蝕刻液])溶液需不斷由添加的藥劑所取締。本系統(tǒng)將大量原本需要排放的用后蝕刻液再生還原成為可再次使用的再生蝕刻液。只需極少量的補(bǔ)充劑及氨水,補(bǔ)償因運(yùn)作時(shí)被帶走而失去的部份。從而取代蝕刻子液,既可達(dá)到蝕刻工藝的要求,又可節(jié)省生產(chǎn)成本。蝕刻液再生循環(huán)系統(tǒng)有酸性、堿性?xún)纱笙到y(tǒng),兩大系統(tǒng)又可分為萃取法、直接電解法??蓪⒋罅吭拘枰欧诺挠煤笪g刻液還原再生成為可再次使用的再生蝕刻液。從而減少生產(chǎn)廢液的排放,回用降低生產(chǎn)成本,且可提取出高純度電解金屬銅。BOE蝕刻液適用于哪些行業(yè)。了解BOE蝕刻液推薦廠(chǎng)家

BOE蝕刻液應(yīng)用于什么樣的場(chǎng)合?湖北一種BOE蝕刻液批量定制

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